半導(dǎo)體產(chǎn)品清洗超純水設(shè)備，半導(dǎo)體芯片清洗超純水系統(tǒng)

。

半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備制備工藝：

　1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

 2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥18MΩ.CM）(新工藝)

　3、預(yù)處理→一*反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→*二*反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥17MΩ.CM）(新工藝)

　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥15MΩ.CM）(新工藝)

　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)